R. Doering – Handbook of Semiconductor Manufactruring Technology (2008)

1.835 

Автор: R. Doering
Название книги: Handbook of Semiconductor Manufactruring Technology
Формат: PDF
Жанр: Приборостроение
Страницы: 1722
Качество: Изначально компьютерное, E-book

Retaining the comprehensive and in-depth approach that cemented the bestselling first edition's place as a standard reference in the field, the Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology, Second Edition features new and updated material that keeps it at the vanguard of today's most dynamic and rapidly growing field. Iconic experts Robert Doering and Yoshio Nishi have again assembled a team of the world's leading specialists in every area of semiconductor manufacturing to provide the most reliable, authoritative, and industry-leading information available.
Stay Current with the Latest Technologies.
In addition to updates to nearly every existing chapter, this edition features five entirely new contributions on….
Silicon-on-insulator (SOI) materials and devices.
Supercritical CO2 in semiconductor cleaning.
Low-k dielectrics.
Atomic-layer deposition.
Damascene copper electroplating.
Effects of terrestrial radiation on integrated circuits (ICs).
Reflecting rapid progress in many areas, several chapters were heavily revised and updated, and in some cases, rewritten to reflect rapid advances in such areas as interconnect technologies, gate dielectrics, photomask fabrication, IC packaging, and 300 mm wafer fabrication.
While no book can be up-to-the-minute with the advances in the semiconductor field, the Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology keeps the most important data, methods, tools, and techniques close at hand.

Описание

Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology Р. Деринга — фундаментальное справочное издание, которое подробно раскрывает все ключевые процессы и технологии современного производства полупроводников. Книга системно описывает этапы создания интегральных схем: от подготовки кремниевых пластин и литографии до травления, нанесения тонких плёнок, имплантации, химико-механической полировки и финальной сборки.

Издание охватывает как базовые физические принципы, так и актуальные промышленные методы, включая технологии 300-мм пластин, передовые материалы с высоким значением k и низким k, а также вопросы контроля качества, метрологии и экологической безопасности производства. Особое внимание уделено взаимосвязи материалов, оборудования и процессов.

  • Инженерам-технологам и разработчикам микроэлектроники
  • Студентам и аспирантам профильных специальностей
  • Специалистам компаний-производителей чипов (Intel, TSMC, Samsung и др.)
  • Исследователям, работающим в области нанотехнологий и материаловедения

Отзывы

Отзывов пока нет.

Только зарегистрированные клиенты, купившие данный товар, могут публиковать отзывы.