Z. Cao – Thin Film Growth (2011)

1.780 

Автор: Z. Cao
Название книги: Thin Film Growth
Формат: PDF
Жанр: Физика
Страницы: 429
Качество: Изначально компьютерное, E-book

Thin film technology is used in many applications such as microelectronics, optics, hard and corrosion resistant coatings and micromechanics, and thin films form a uniquely versatile material base for the development of novel technologies within these industries. Thin film growth provides an important and up-to-date review of the theory and deposition techniques used in the formation of thin films.

Part one focuses on the theory of thin film growth, with chapters covering nucleation and growth processes in thin films, phase-field modelling of thin film growth and surface roughness evolution. Part two covers some of the techniques used for thin film growth, including oblique angle deposition, reactive magnetron sputtering and epitaxial growth of graphene films on single crystal metal surfaces. This section also includes chapters on the properties of thin films, covering topics such as substrate plasticity and buckling of thin films, polarity control, nanostructure growth dynamics and network behaviour in thin films.

With its distinguished editor and international team of contributors, Thin film growth is an essential reference for engineers in electronics, energy materials and mechanical engineering, as well as those with an academic research interest in the topic.
Provides an important and up-to-date review of the theory and deposition techniques used in the formation of thin films
Focusses on the theory and modelling of thin film growth, techniques and mechanisms used for thin film growth and properties of thin films
An essential reference for engineers in electronics, energy materials and mechanical engineering

Описание

Книга Z. Cao – Thin Film Growth (2011) представляет собой подробное введение в процессы формирования тонких пленок — ключевого элемента современной электроники, оптоэлектроники и материаловедения. Автор рассматривает фундаментальные физические принципы, механизмы роста и технологические методы, используемые для создания высококачественных пленочных структур.

Издание охватывает основные модели роста (островковый, слойный, слойно-островковый), влияние параметров процесса (температура, давление, скорость осаждения) на структуру и свойства пленок, а также современные методы in-situ диагностики и пост-ростового анализа. Особое внимание уделяется контролю кристаллической структуры, морфологии поверхности и напряжений в пленках.

  • Студентам и аспирантам, изучающим материаловедение, физику твердого тела и нанотехнологии
  • Инженерам и исследователям, работающим с вакуумным осаждением, MBE, CVD и ALD
  • Специалистам в области полупроводников, солнечной энергетики и сенсоров
  • Всем, кто хочет понять, как параметры роста влияют на конечные свойства тонкопленочных устройств

Отзывы

Отзывов пока нет.

Только зарегистрированные клиенты, купившие данный товар, могут публиковать отзывы.