P. Chu – Low Temperature Plasma Technology
982 ₽
Автор: P. Chu
Название книги: Low Temperature Plasma Technology
Формат: PDF
Жанр: Физика
Страницы: 495
Качество: Изначально компьютерное, E-book
Written by a team of pioneering scientists from around the world, Low Temperature Plasma Technology: Methods and Applications brings together recent technological advances and research in the rapidly growing field of low temperature plasmas.
The book provides a comprehensive overview of related phenomena such as plasma bullets, plasma penetration into biofilms, discharge-mode transition of atmospheric pressure plasmas, and self-organization of microdischarges. It describes relevant technology and diagnostics, including nanosecond pulsed discharge, cavity ringdown spectroscopy, and laser-induced fluorescence measurement, and explores the increasing research on atmospheric pressure nonequilibrium plasma jets. The authors also discuss how low temperature plasmas are used in the synthesis of nanomaterials, environmental applications, the treatment of biomaterials, and plasma medicine.
This book provides a balanced and thorough treatment of the core principles, novel technology and diagnostics, and state-of-the-art applications of low temperature plasmas. It is accessible to scientists and graduate students in low-pressure plasma physics, nanotechnology, plasma medicine, and materials science. The book is also suitable as an advanced reference for senior undergraduate students.
Описание
Книга P. Chu – Low Temperature Plasma Technology представляет собой современное введение в физику и применение низкотемпературной плазмы. Автор подробно рассматривает фундаментальные процессы, методы генерации и диагностики плазмы, а также её практическое использование в науке и промышленности.
Издание охватывает ключевые аспекты: от кинетики частиц и поверхностных взаимодействий до технологий плазменного травления, напыления тонких пленок, стерилизации и экологических применений. Особое внимание уделено плазменно-жидкостным системам и новым направлениям в материаловедении.
- Физикам и студентам старших курсов, изучающим плазменные технологии
- Инженерам, работающим в области микроэлектроники, материаловедения и вакуумной техники
- Специалистам по поверхностной обработке и тонкопленочным покрытиям
- Исследователям, интересующимся экологическими и медицинскими приложениями плазмы
Только зарегистрированные клиенты, купившие данный товар, могут публиковать отзывы.
Другие книги раздела «Физика»
- Shi-Hai Dong – Factorization Method in Quantum Mechanics (2007)
- T. Brown – The Optics Encyclopedia
- T. Dolan – Magnetic Fusion Technology (2013)
- T. Engel – Thermodynamics Statistical Thermodynamics and Kinetics (3rd edition)
- T. Frankel – The Geometry of Physics (Third edition)
- T. Matsushita – Flux Pinning in Superconductors (Second edition, 2014)
- T. McKechnie – General Theory of Light Propagation & Imaging Through Atmosphere (2015)
- T. Mieno – Plasma Science and Technology Progress in Physical States and Chemical Reactions (2016)
- T. Nieuwenhuizen – Quantum Foundations and Open Quantum Systems (2014)
- T. Yoshizawa – Handbook of Optical Metrology (Second edition, 2015)
- V. Fortov – Extreme States of Matter. High Energy Density Physics (2nd edition, 2015)
- V. Magnasco – Elementary Molecular Quantum Mechanics (2nd edition)
- V. Shevelko – Atomic Processes in Basic and Applied Physics (2012)
- W. Dittrich – Classical and Quantum Dynamics (4th edition, 2016)
- Y. Hatano – Charged Particle and Photon Interactions with Matter
- Y. Yamamoto – Principles and Methods of Quantum Information Technologies

Отзывы
Отзывов пока нет.